N-రకం TOPCon కణాల ప్రామాణీకరణపై పరిశోధన
- నవీకరించబడింది: 2023-05-14
- By
ఓయిటెక్
- సందర్శనలు: 5499
- 0
ఇటీవలి సంవత్సరాలలో, కొత్త సాంకేతికతలు, కొత్త ప్రక్రియలు మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ కణాల యొక్క కొత్త నిర్మాణాల అభివృద్ధి మరియు వినియోగంతో, ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్ పరిశ్రమ వేగంగా అభివృద్ధి చెందింది. కొత్త శక్తి మరియు స్మార్ట్ గ్రిడ్‌ల అభివృద్ధికి తోడ్పడే కీలక సాంకేతికతగా, n-రకం కణాలు ప్రపంచ పారిశ్రామిక అభివృద్ధిలో హాట్ స్పాట్‌గా మారాయి.
ఎందుకంటే n-రకం టన్నెలింగ్ ఆక్సైడ్ లేయర్ పాసివేషన్ కాంటాక్ట్ ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్ (ఇకపై "n-టైప్ TOPCon సెల్"గా సూచిస్తారు) సాంప్రదాయ కాంతివిపీడన కణాలతో పోలిస్తే సామర్థ్యాన్ని గణనీయంగా మెరుగుపరిచే పనితీరు ప్రయోజనాన్ని కలిగి ఉంది, ఖర్చు నియంత్రణలో పెరుగుదల మరియు పరిపక్వ పరికర పరివర్తన, n-రకం TOPCon సెల్ దేశీయ ఉత్పత్తి సామర్థ్యం యొక్క మరింత విస్తరణ అధిక-సామర్థ్య కాంతివిపీడన కణాల యొక్క ప్రధాన అభివృద్ధి దిశగా మారింది.
n-రకం TOPCon బ్యాటరీల ప్రామాణీకరణ ప్రస్తుత ప్రమాణాలను కవర్ చేయడంలో అసమర్థత మరియు ప్రమాణాల వర్తకతను మెరుగుపరచాల్సిన అవసరం వంటి సమస్యలను ఎదుర్కొంటుంది. ఈ పేపర్ n-రకం TOPCon బ్యాటరీల ప్రామాణీకరణపై పరిశోధన మరియు విశ్లేషణను నిర్వహిస్తుంది మరియు ప్రామాణీకరణ కోసం సూచనలను అందిస్తుంది.n-రకం TOPCon సెల్ టెక్నాలజీ అభివృద్ధి స్థితిసంప్రదాయ కాంతివిపీడన కణాలలో ఉపయోగించే p-రకం సిలికాన్ బేస్ మెటీరియల్ యొక్క నిర్మాణం n+pp+, కాంతి-స్వీకరించే ఉపరితలం n+ ఉపరితలం మరియు ఉద్గారిణిని రూపొందించడానికి ఫాస్పరస్ వ్యాప్తి ఉపయోగించబడుతుంది.n-రకం సిలికాన్ బేస్ మెటీరియల్స్ కోసం హోమోజంక్షన్ ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్ స్ట్రక్చర్‌లలో రెండు ప్రధాన రకాలు ఉన్నాయి, ఒకటి n+np+, మరియు మరొకటి p+nn+.p-రకం సిలికాన్‌తో పోలిస్తే, n-రకం సిలికాన్ మెరుగైన మైనారిటీ క్యారియర్ జీవితకాలం, తక్కువ అటెన్యూయేషన్ మరియు ఎక్కువ సామర్థ్య సామర్థ్యాన్ని కలిగి ఉంటుంది.n-రకం సిలికాన్‌తో తయారు చేయబడిన n-రకం ద్విపార్శ్వ సెల్ అధిక సామర్థ్యం, మంచి తక్కువ కాంతి ప్రతిస్పందన, తక్కువ ఉష్ణోగ్రత గుణకం మరియు మరింత ద్విపార్శ్వ విద్యుత్ ఉత్పత్తి వంటి ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది.ఫోటోవోల్టాయిక్ కణాల ఫోటోఎలెక్ట్రిక్ మార్పిడి సామర్థ్యం కోసం పరిశ్రమ అవసరాలు పెరుగుతూనే ఉన్నందున, TOPCon, HJT మరియు IBC వంటి n-రకం హై-ఎఫిషియన్సీ ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్‌లు క్రమంగా భవిష్యత్ మార్కెట్‌ను ఆక్రమిస్తాయి.2021 అంతర్జాతీయ ఫోటోవోల్టాయిక్ రోడ్‌మ్యాప్ (ITRPV) గ్లోబల్ ఫోటోవోల్టాయిక్ పరిశ్రమ సాంకేతికత మరియు మార్కెట్ సూచన ప్రకారం, n-రకం కణాలు స్వదేశంలో మరియు విదేశాలలో ఫోటోవోల్టాయిక్ కణాల భవిష్యత్తు సాంకేతికత మరియు మార్కెట్ అభివృద్ధి దిశను సూచిస్తాయి.మూడు రకాల n-రకం బ్యాటరీల యొక్క సాంకేతిక మార్గాలలో, n-రకం TOPCon బ్యాటరీలు ఇప్పటికే ఉన్న పరికరాల యొక్క అధిక వినియోగ రేటు మరియు అధిక మార్పిడి సామర్థ్యం యొక్క ప్రయోజనాల కారణంగా అతిపెద్ద పారిశ్రామికీకరణ స్థాయితో సాంకేతిక మార్గంగా మారాయి.
ప్రస్తుతం, పరిశ్రమలో n-రకం TOPCon బ్యాటరీలు సాధారణంగా LPCVD (తక్కువ-పీడన ఆవిరి-దశ రసాయన నిక్షేపణ) సాంకేతికత ఆధారంగా తయారు చేయబడతాయి, ఇది అనేక విధానాలను కలిగి ఉంటుంది, సామర్థ్యం మరియు దిగుబడి పరిమితం చేయబడింది మరియు పరికరాలు దిగుమతులపై ఆధారపడతాయి. దాన్ని మెరుగుపరచాలి. n-రకం TOPCon కణాల భారీ-స్థాయి ఉత్పత్తి అధిక తయారీ వ్యయం, సంక్లిష్టమైన ప్రక్రియ, తక్కువ దిగుబడి రేటు మరియు తగినంత మార్పిడి సామర్థ్యం వంటి సాంకేతిక సమస్యలను ఎదుర్కొంటుంది.పరిశ్రమ n-రకం TOPCon కణాల సాంకేతికతను మెరుగుపరచడానికి అనేక ప్రయత్నాలు చేసింది. వాటిలో, ఇన్-సిటు డోప్డ్ పాలీసిలికాన్ లేయర్ టెక్నాలజీ టన్నెలింగ్ ఆక్సైడ్ లేయర్ మరియు డోప్డ్ పాలిసిలికాన్ (n+-polySi) లేయర్ యొక్క సింగిల్-ప్రాసెస్ డిపాజిషన్‌లో వర్తించబడుతుంది.n-రకం TOPCon బ్యాటరీ యొక్క మెటల్ ఎలక్ట్రోడ్ అల్యూమినియం పేస్ట్ మరియు సిల్వర్ పేస్ట్ మిక్సింగ్ యొక్క కొత్త సాంకేతికతను ఉపయోగించి తయారు చేయబడింది, ఇది ధరను తగ్గిస్తుంది మరియు సంపర్క నిరోధకతను మెరుగుపరుస్తుంది; ఫ్రంట్ సెలెక్టివ్ ఎమిటర్ స్ట్రక్చర్ మరియు బ్యాక్ మల్టీ-లేయర్ టన్నెలింగ్ పాసివేషన్ కాంటాక్ట్ స్ట్రక్చర్ టెక్నాలజీని స్వీకరిస్తుంది.ఈ సాంకేతిక నవీకరణలు మరియు ప్రక్రియ ఆప్టిమైజేషన్ n-రకం TOPCon కణాల పారిశ్రామికీకరణకు నిర్దిష్ట సహకారాన్ని అందించాయి.n-రకం TOPCon బ్యాటరీ ప్రమాణీకరణపై పరిశోధనn-రకం TOPCon కణాలు మరియు సంప్రదాయ p-రకం ఫోటోవోల్టాయిక్ కణాల మధ్య కొన్ని సాంకేతిక వ్యత్యాసాలు ఉన్నాయి మరియు మార్కెట్‌లోని ఫోటోవోల్టాయిక్ కణాల తీర్పు ప్రస్తుత సంప్రదాయ బ్యాటరీ ప్రమాణాలపై ఆధారపడి ఉంటుంది మరియు n-రకం ఫోటోవోల్టాయిక్ కణాలకు స్పష్టమైన ప్రామాణిక అవసరం లేదు. .n-రకం TOPCon సెల్ తక్కువ అటెన్యుయేషన్, తక్కువ ఉష్ణోగ్రత గుణకం, అధిక సామర్థ్యం, అధిక ద్విముఖ గుణకం, అధిక ఓపెనింగ్ వోల్టేజ్ మొదలైన లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది. ఇది ప్రమాణాల పరంగా సాంప్రదాయ ఫోటోవోల్టాయిక్ కణాల నుండి భిన్నంగా ఉంటుంది.
ఈ విభాగం n-రకం TOPCon బ్యాటరీ యొక్క ప్రామాణిక సూచికల నిర్ధారణ నుండి ప్రారంభమవుతుంది, వక్రత, ఎలక్ట్రోడ్ తన్యత బలం, విశ్వసనీయత మరియు ప్రారంభ కాంతి-ప్రేరిత అటెన్యుయేషన్ పనితీరు చుట్టూ సంబంధిత ధృవీకరణను నిర్వహించండి మరియు ధృవీకరణ ఫలితాలను చర్చించండి.ప్రామాణిక సూచికల నిర్ధారణసాంప్రదాయిక కాంతివిపీడన కణాలు ఉత్పత్తి ప్రమాణం GB/T29195-2012 "భూమి-ఉపయోగించిన స్ఫటికాకార సిలికాన్ సౌర ఘటాల కోసం సాధారణ లక్షణాలు"పై ఆధారపడి ఉంటాయి, దీనికి కాంతివిపీడన కణాల లక్షణ పారామితులు స్పష్టంగా అవసరం.GB/T29195-2012 యొక్క అవసరాల ఆధారంగా, n-రకం TOPCon బ్యాటరీల యొక్క సాంకేతిక లక్షణాలతో కలిపి, విశ్లేషణ అంశం వారీగా నిర్వహించబడింది.టేబుల్ 1 చూడండి, n-రకం TOPCon బ్యాటరీలు పరిమాణం మరియు ప్రదర్శన పరంగా సంప్రదాయ బ్యాటరీల మాదిరిగానే ఉంటాయి;
టేబుల్ 1 n-రకం TOPCon బ్యాటరీ మరియు GB/T29195-2012 అవసరాల మధ్య పోలిక
ఎలక్ట్రికల్ పనితీరు పారామితులు మరియు ఉష్ణోగ్రత గుణకం పరంగా, పరీక్షలు IEC60904-1 మరియు IEC61853-2 ప్రకారం నిర్వహించబడతాయి మరియు పరీక్ష పద్ధతులు సంప్రదాయ బ్యాటరీలకు అనుగుణంగా ఉంటాయి; మెకానికల్ లక్షణాల అవసరాలు బెండింగ్ డిగ్రీ మరియు ఎలక్ట్రోడ్ తన్యత బలం పరంగా సాంప్రదాయ బ్యాటరీల నుండి భిన్నంగా ఉంటాయి.అదనంగా, ఉత్పత్తి యొక్క వాస్తవ అనువర్తన వాతావరణం ప్రకారం, విశ్వసనీయత అవసరంగా తడిగా ఉన్న ఉష్ణ పరీక్ష జోడించబడుతుంది.పై విశ్లేషణ ఆధారంగా, n-రకం TOPCon బ్యాటరీల యొక్క యాంత్రిక లక్షణాలు మరియు విశ్వసనీయతను ధృవీకరించడానికి ప్రయోగాలు జరిగాయి.ఒకే సాంకేతిక మార్గంతో విభిన్న తయారీదారుల నుండి ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్ ఉత్పత్తులు ప్రయోగాత్మక నమూనాలుగా ఎంపిక చేయబడ్డాయి. నమూనాలను Taizhou Jolywood Optoelectronics Technology Co., Ltd అందించింది.ఈ ప్రయోగం థర్డ్-పార్టీ లాబొరేటరీలు మరియు ఎంటర్‌ప్రైజ్ లాబొరేటరీలలో నిర్వహించబడింది మరియు బెండింగ్ డిగ్రీ మరియు ఎలక్ట్రోడ్ టెన్సైల్ స్ట్రెంగ్త్, థర్మల్ సైకిల్ టెస్ట్ మరియు డ్యాంప్ హీట్ టెస్ట్ మరియు ప్రారంభ కాంతి-ప్రేరిత అటెన్యుయేషన్ పనితీరు వంటి పారామితులు పరీక్షించబడ్డాయి మరియు ధృవీకరించబడ్డాయి.ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్స్ యొక్క మెకానికల్ ప్రాపర్టీస్ యొక్క ధృవీకరణn-రకం TOPCon బ్యాటరీల యొక్క మెకానికల్ లక్షణాలలో బెండింగ్ డిగ్రీ మరియు ఎలక్ట్రోడ్ తన్యత బలం నేరుగా బ్యాటరీ షీట్‌లోనే పరీక్షించబడతాయి మరియు పరీక్షా పద్ధతి యొక్క ధృవీకరణ క్రింది విధంగా ఉంటుంది.వక్రత అనేది పరీక్షించిన నమూనా యొక్క మధ్యస్థ ఉపరితలం యొక్క మధ్య బిందువు మరియు మధ్యస్థ ఉపరితలం యొక్క సూచన విమానం మధ్య విచలనాన్ని సూచిస్తుంది. ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్ యొక్క బెండింగ్ డిఫార్మేషన్‌ను పరీక్షించడం ద్వారా ఒత్తిడిలో బ్యాటరీ యొక్క ఫ్లాట్‌నెస్‌ను అంచనా వేయడానికి ఇది ఒక ముఖ్యమైన సూచిక.తక్కువ పీడన స్థానభ్రంశం సూచికను ఉపయోగించి పొర యొక్క కేంద్రం నుండి సూచన విమానం వరకు దూరాన్ని కొలవడం దీని ప్రాథమిక పరీక్ష పద్ధతి.జాలీవుడ్ ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు జియాన్ స్టేట్ పవర్ ఇన్వెస్ట్‌మెంట్ ఒక్కొక్కటి M20 సైజు n-రకం TOPCon బ్యాటరీల 10 ముక్కలను అందించాయి. ఉపరితలం యొక్క ఫ్లాట్‌నెస్ 0.01 మిమీ కంటే మెరుగ్గా ఉంది మరియు బ్యాటరీ వక్రత 0.01 మిమీ కంటే మెరుగైన రిజల్యూషన్‌తో కొలిచే సాధనంతో పరీక్షించబడింది.GB/T4.2.1-29195లో 2012 నిబంధనల ప్రకారం బ్యాటరీ బెండింగ్ పరీక్ష జరుగుతుంది.పరీక్ష ఫలితాలు టేబుల్ 2లో చూపబడ్డాయి.
టేబుల్ 2 n-రకం TOPCon కణాల బెండింగ్ పరీక్ష ఫలితాలు
జాలీవుడ్ మరియు జియాన్ స్టేట్ పవర్ ఇన్వెస్ట్‌మెంట్ యొక్క ఎంటర్‌ప్రైజ్ అంతర్గత నియంత్రణ ప్రమాణాలు రెండూ బెండింగ్ డిగ్రీ 0.1 మిమీ కంటే ఎక్కువగా ఉండకూడదు. నమూనా పరీక్ష ఫలితాల విశ్లేషణ ప్రకారం, జాలీవుడ్ ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు జియాన్ స్టేట్ పవర్ ఇన్వెస్ట్‌మెంట్ యొక్క సగటు బెండింగ్ డిగ్రీ వరుసగా 0.056mm మరియు 0.053mm. గరిష్ట విలువలు వరుసగా 0.08mm మరియు 0.10mm.పరీక్ష ధృవీకరణ ఫలితాల ప్రకారం, n-రకం TOPCon బ్యాటరీ యొక్క వక్రత 0.1mm కంటే ఎక్కువగా ఉండకూడదనే అవసరం ప్రతిపాదించబడింది.ఎలక్ట్రోడ్ తన్యత బలం పరీక్ష ధృవీకరణమెటల్ రిబ్బన్ కరెంట్ నిర్వహించడానికి వెల్డింగ్ ద్వారా ఫోటోవోల్టాయిక్ సెల్ యొక్క గ్రిడ్ వైర్‌కు కనెక్ట్ చేయబడింది. సంపర్క నిరోధకతను తగ్గించడానికి మరియు ప్రస్తుత ప్రసరణ సామర్థ్యాన్ని నిర్ధారించడానికి టంకము రిబ్బన్ మరియు ఎలక్ట్రోడ్ స్థిరంగా కనెక్ట్ చేయబడాలి.ఈ కారణంగా, బ్యాటరీ యొక్క గ్రిడ్ వైర్‌పై ఎలక్ట్రోడ్ తన్యత బలం పరీక్ష బ్యాటరీ యొక్క ఎలక్ట్రోడ్ వెల్డబిలిటీ మరియు వెల్డింగ్ నాణ్యతను అంచనా వేయగలదు, ఇది ఫోటోవోల్టాయిక్ బ్యాటరీ మోటార్ యొక్క సంశ్లేషణ బలం కోసం ఒక సాధారణ పరీక్షా పద్ధతి.<section style="margin: 0px 0px 16px;padding: 0px;outline
